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產(chǎn)品展示
  • 產(chǎn)品名稱:碳化硅微粉濕法研磨分散機(jī)
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國(guó)大陸
  • 訪問(wèn)次數(shù):154 發(fā)布時(shí)間:2023/5/12 17:13:05
  • 簡(jiǎn)介內(nèi)容:碳化硅精細(xì)陶瓷用碳化硅微粉研磨分散機(jī)泳炉,碳化硅微粉濕法粉碎研磨機(jī)苟呐,碳化硅微粉漿液納米研磨分散機(jī),碳化硅微粉濕法研磨分散機(jī)物料通過(guò)研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力黄痪、高頻振動(dòng)等物理作用拉庶,使物料被有效的乳化杨刨、分散和粉碎映之,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果,粉體粒徑可至微納米怜奖。...更多詳情請(qǐng)致電上海依肯銷售工程師 徐工 182-0189-1183浑测,公司有樣機(jī)可以免費(fèi)進(jìn)行實(shí)驗(yàn)測(cè)試。
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碳化硅微粉濕法研磨分散機(jī)

碳化硅精細(xì)陶瓷用碳化硅微粉研磨分散機(jī)歪玲,碳化硅微粉濕法粉碎研磨機(jī)迁央,碳化硅微粉漿液納米研磨分散機(jī),碳化硅微粉濕法研磨分散機(jī)

     
      碳化硅精細(xì)陶瓷具有高硬度滥崩、高強(qiáng)度岖圈、高耐磨性、耐腐蝕钙皮、耐高溫等特點(diǎn)幅狮,已逐漸應(yīng)用到航空航天、機(jī)械株灸、冶金、能源擎值、環(huán)保慌烧、化工、醫(yī)學(xué)鸠儿、電子屹蚊、軍工等諸多技術(shù)域。碳化硅精細(xì)陶瓷的性能與碳化硅原料微粉的質(zhì)量密切相關(guān)进每,通常要求微粉純度高汹粤、粒度分布均勻、顆粒形狀為近球形田晚、不易團(tuán)聚具有良好的流動(dòng)性嘱兼、燒結(jié)性能好。         
       現(xiàn)有的碳化硅微粉工業(yè)化生產(chǎn)流程主要包括冶煉贤徒、粉碎芹壕、提純汇四、精密分等一系列過(guò)程,對(duì)于碳化硅精細(xì)陶瓷用原料微粉需增加整形工序踢涌。在上述工藝過(guò)程中通孽,雖然理論上可以實(shí)現(xiàn)不同粒徑碳化硅微粉的分離,但實(shí)際上對(duì)于一些粒徑相差非常大的粒子難以實(shí)現(xiàn)完全分離睁壁,如微米碳化硅微粉顆粒表面會(huì)粘附大量的納米碳化硅顆粒(主要成分為SiO2與低純度的SiC)背苦,而納米碳化硅顆粒的存在會(huì)降低碳化硅微粉的純度,影響微粉的流動(dòng)性潘明、分散性行剂、堆積密度,而且會(huì)優(yōu)先與燒結(jié)助劑反應(yīng)钉疫,造成碳化硅微粉的成型性能與燒結(jié)性能變差硼讽,進(jìn)而導(dǎo)致終碳化硅精細(xì)陶瓷制品性能下降。

   
    碳化硅微粉濕法研磨分散機(jī)CMSD2000系列改進(jìn)型膠體磨研磨式分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品牲阁,先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽固阁。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無(wú)限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成城菊。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求备燃。物料通過(guò)研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力凌唬、高頻振動(dòng)等物理作用并齐,使物料被有效的乳化、分散和粉碎客税,達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果况褪,粉體粒徑可至微納米。

 

整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子更耻,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料测垛,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。

濕法研磨分散機(jī)濕磨是干磨的一種安全而高效的替代方案秧均,基于轉(zhuǎn)子-定子原理食侮。

用轉(zhuǎn)子-定子置濕磨此類物質(zhì)具有諸多好處:

1、 研磨得到的細(xì)顆粒被直接融合到懸浮液中目胡,因而從開(kāi)始就避免了灰塵的形成锯七;

2 、與干磨系統(tǒng)不同誉己,被研磨的物質(zhì)保持在系統(tǒng)內(nèi)眉尸,從而大幅減少了損失。因此,濕磨非常適合有機(jī)化學(xué)品效五,尤其是優(yōu)質(zhì)物質(zhì)地消,或者有毒物質(zhì)的研磨;

3畏妖、相對(duì)干磨過(guò)程而言脉执,濕磨的產(chǎn)品進(jìn)料和計(jì)量較容易。

 

CMSD2000系列碳化硅微粉濕法研磨分散機(jī)選型表

型號(hào)

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

 

線速度

m/s

 

功率

kw

入/出口連接

DN

CMSD 2000/4

300

14000

 

41

 

4

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

10500

 

41

 

11

DN40/DN32

CMSD 2000/10

4000

7200

 

41

 

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

10000

4900

 

41

 

45

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

2850

 

41

 

90

DN150/DN125

CMSD 2000/50

60000

1100

 

41

 

160

DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)戒劫。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性半夷,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%

碳化硅精細(xì)陶瓷用碳化硅微粉研磨分散機(jī),碳化硅微粉濕法粉碎研磨機(jī)迅细,碳化硅微粉漿液納米研磨分散機(jī)巫橄,碳化硅微粉濕法研磨分散機(jī)

更新時(shí)間:2024/12/16 9:24:19

標(biāo)簽:碳化硅微粉濕法研磨分散機(jī)   濕法研磨分散機(jī)   研磨分散機(jī)   

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