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隨著國家對環(huán)保行業(yè)的高度重視,涂料凹联、油墨行業(yè)產(chǎn)品的升沐兰,生產(chǎn)用的砂磨機即將迎來一場以新替舊的變局。
以往的產(chǎn)品粒徑要求在15-20um就能滿足業(yè)界的需求蔽挠,但是近幾年已經(jīng)在轉(zhuǎn)變?yōu)?um以下住闯,當(dāng)然這里面關(guān)鍵的是顏料原材料的選擇。要想產(chǎn)品達到這種粒徑,就必須使用濕式研磨設(shè)備比原。
所謂濕法研磨即是:先將納米粉體與適當(dāng)溶劑混和插佛,調(diào)制成適當(dāng)材料。為了避免于研磨過程中發(fā)生粉體凝聚現(xiàn)象量窘,所以需加入適當(dāng)分散劑或助劑充當(dāng)助磨劑雇寇。
研磨即是利用剪切力﹑摩擦力或沖擊力將粉體由大顆粒研磨成小顆粒。在做納米粉體分散或研磨時蚌铜,因為粉體尺度由大變小的過程中锨侯,所以,如何選擇適當(dāng)助劑以避免粉體再次凝聚及如何選擇適當(dāng)?shù)难心C來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響冬殃,將成為濕法研磨能否成功地得到納米粉體研磨與分散關(guān)鍵技術(shù)识腿。
高速研磨分散機, 線速度很高造壮,剪切間隙非常小渡讼,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈耳璧,結(jié)果就是通常所說的濕磨成箫。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形,具有精細度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽旨枯。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離蹬昌。在增強的流體湍流下,凹槽在每都可以改變方向攀隔。第二組由轉(zhuǎn)定子組成皂贩。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力(可有泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力昆汹,通過高速研磨分散機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力明刷、摩擦力、高頻振動等物理作用满粗,使物料被有效的乳化辈末、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果映皆。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子挤聘,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求捅彻。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點:
1 研磨和分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨和分散頭的剪切速率 (越大组去,效果越好)
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒步淹,細齒从隆,超細齒湾戳,約細齒效果越好)
4 物料在研磨分散腔體的停留時間,研磨均質(zhì)時間(可以看作同等的電機广料,流量越小,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多幼驶,效果越好艾杏,到設(shè)備的期限,就不能再好)
CMSD2000系列研磨分散機參數(shù)選型表
研磨分散機 | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)盅藻。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性购桑,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
更新時間:2024/12/16 9:50:08
標(biāo)簽:涂料在線式研磨分散機