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一種解決高濃度漿料研磨分散機(jī)殿托,高濃度漿料均質(zhì)研磨分散設(shè)備揽浙,高粘度物料研磨式分散機(jī)
研磨分散機(jī)是粉體制備的關(guān)鍵設(shè)備鼠渺,通常應(yīng)用于涂料遵岩、化工你辣、醫(yī)藥、電子尘执、食品生物舍哄、能源、采礦等行業(yè)誊锭。采用機(jī)械方式研磨分散是目工業(yè)上大批量制備粉體材料的重要方式表悬。
現(xiàn)有技術(shù)中的研磨分散機(jī)研磨的速度較低,研磨的均勻性較差丧靡,從而降低了該裝置的工作效率蟆沫,增加了工作時(shí)間,因此需要一種解決高濃度漿料研磨分散機(jī)來(lái)解決上述所出現(xiàn)的問(wèn)題温治。
上海依肯IKN研發(fā)工程師針對(duì)以上問(wèn)題饭庞,結(jié)合多年來(lái)豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn),特別研制IKN-CMSD2000系列研磨分散機(jī)熬荆,CMD2000系列改進(jìn)型膠體磨研磨式分散機(jī)是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品舟山,先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無(wú)限制調(diào)整間隙。第二組由轉(zhuǎn)定子組成累盗。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求寒矿。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料若债,可以滿足不同行業(yè)的多種需求符相。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)
1 研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨頭的剪切速率 (越大,效果越好)
3 研磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒拆座,中齒主巍,細(xì)齒冠息,超細(xì)齒挪凑,約細(xì)齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時(shí)間,乳化分散時(shí)間(可以看作同等的電機(jī)逛艰,流量越小躏碳,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好散怖,到設(shè)備的期限菇绵,就不能再好)
線速度的計(jì)算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對(duì)速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知镇眷,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請(qǐng)況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距咬最。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
CMSD2000系列研磨分散機(jī)選型表
型號(hào) | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性欠动,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
一種解決高濃度漿料研磨分散機(jī)永乌,高濃度漿料均質(zhì)研磨分散設(shè)備,高粘度物料研磨式分散機(jī)
更新時(shí)間:2024/12/16 9:49:54
標(biāo)簽:一種解決高濃度漿料研磨分散機(jī) 高濃度漿料研磨分散機(jī) 研磨分散機(jī)