18201891183
全國在線客服
當(dāng)前位置:上海依肯機械設(shè)備有限公司>產(chǎn)品中心>高速研磨分散機 > 超高速研磨分散機 > 高濃度漿料均質(zhì)研磨分散設(shè)備
一種解決高濃度漿料研磨分散機峰锁,高濃度漿料均質(zhì)研磨分散設(shè)備,高粘度物料研磨式分散機
研磨分散機是粉體制備的關(guān)鍵設(shè)備,通常應(yīng)用于涂料祠饺、化工、醫(yī)藥叽掘、電子楣铁、食品生物、能源更扁、采礦等行業(yè)盖腕。采用機械方式研磨分散是目工業(yè)上大批量制備粉體材料的重要方式。
現(xiàn)有技術(shù)中的研磨分散機研磨的速度較低浓镜,研磨的均勻性較差溃列,從而降低了該裝置的工作效率,增加了工作時間膛薛,因此需要一種解決高濃度漿料研磨分散機來解決上述所出現(xiàn)的問題听隐。
上海依肯IKN研發(fā)工程師針對以上問題,結(jié)合多年來豐富的行業(yè)經(jīng)驗哄啄,特別研制IKN-CMSD2000系列研磨分散機雅任,CMD2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽咨跌。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙沪么。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求锌半。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子禽车,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種需求刊殉。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點
1 研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨頭的剪切速率 (越大殉摔,效果越好)
3 研磨頭的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒,中齒冗澈,細齒钦勘,超細齒,約細齒效果越好)
4 物料在分散墻體的停留時間亚亲,乳化分散時間(可以看作同等的電機彻采,流量越小腐缤,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好肛响,到設(shè)備的期限岭粤,就不能再好)
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)/ g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知特笋,剪切速率取決于以下因素:
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距剃浇。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
CMSD2000系列研磨分散機選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性猎物,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
一種解決高濃度漿料研磨分散機虎囚,高濃度漿料均質(zhì)研磨分散設(shè)備,高粘度物料研磨式分散機
更新時間:2024/12/16 9:49:54
標(biāo)簽:高濃度漿料均質(zhì)研磨分散設(shè)備 高濃度漿料研磨式分散機 研磨分散機