一種解決高濃度漿料研磨分散機，高濃度漿料均質(zhì)研磨分散設備翩瓜，高粘度物料研磨式分散機有咨，改進型高濃度漿料研磨分散型膠體磨

      研磨分散機是粉體制備的關鍵設備酱固，通常應用于涂料械念、化工、醫(yī)藥运悲、電子龄减、食品生物、能源班眯、采礦等行業(yè)希停。采用機械方式研磨分散是目工業(yè)上大批量制備粉體材料的重要方式。
     現(xiàn)有技術中的研磨分散機研磨的速度較低署隘，研磨的均勻性較差宠能，從而降低了該裝置的工作效率，增加了工作時間磁餐，因此需要一種解決高濃度漿料研磨分散機來解決上述所出現(xiàn)的問題违崇。
     上海依肯IKN研發(fā)工程師針對以上問題，結(jié)合多年來豐富的行業(yè)經(jīng)驗诊霹，特別研制IKN-CMSD2000系列研磨分散機羞延，CMD2000系列改進型膠體磨研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽脾还。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙伴箩。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求荠呐。整機采用佳的幾何機構的研磨定轉(zhuǎn)子赛蔫，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料砂客，可以滿足不同行業(yè)的多種需求泥张。


影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點

1 研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 研磨頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 研磨頭的齒形結(jié)構（分為初齒鞠值，中齒媚创，細齒，超細齒彤恶，約細齒效果越好）

4  物料在分散墻體的停留時間钞钙，乳化分散時間（可以看作同等的電機，流量越小声离，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多芒炼，效果越好，到設備的期限术徊，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率本刽。

– 剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)/   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

CMSD2000系列研磨分散機選型表

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)子寓。

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性暗挑，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10% 

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更新時間：2024/12/16 9:49:54

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