超細核殼結(jié)構(gòu)氫氧化鎂研磨分散機焕阿，氫氧化鎂阻燃劑分散型濕法粉碎機咪啡，氫氧化鎂濕法研磨機


      近年來，高分子合成材料迅速發(fā)展及廣泛應(yīng)用給人們在生產(chǎn)及生活中帶來了多種 便利暮屡。然而撤摸，大部分合成高分子材料均具有可燃性及易燃性，故而它們在使用在存在嚴重的 火災(zāi)危害褒纲。據(jù)統(tǒng)計准夷，我國2015年火災(zāi)共為33.8萬起，直接經(jīng)濟損失達到39.5億元人民幣外厂，對 高分子材料的阻燃劑已經(jīng)越來越受到各國政府及人民的關(guān)注及重視冕象。 阻燃劑按照元素分可分為含鹵及無鹵阻燃劑，其中鹵素型阻燃劑具有添加量少汁蝶，阻燃劑效率高渐扮，對材料性能影響小等多種優(yōu)勢论悴，但多數(shù)鹵素阻燃劑熱分解過程中釋放致癌 或有毒有害物質(zhì)，對人類及環(huán)境產(chǎn)生惡劣影響墓律。歐洲及美國等發(fā)達地區(qū)已經(jīng)出臺相應(yīng)的標準及法規(guī)以禁止鹵素阻燃劑在特定域中使用膀估。無鹵阻燃劑被認為是環(huán)保型阻燃劑，阻燃元素包括磷耻讽、硅察纯、硼、硫针肥、鎂饼记、鋁等。
      氫氧化鎂是鎂基無機阻燃劑的代表慰枕，安全無毒具则，物理化學(xué) 性質(zhì)穩(wěn)定，不僅具有良好的阻燃及抑煙性能具帮，而且價格相對較低博肋，可作為填充降低成本，礦 粉法的氫氧化鎂已經(jīng)大量的用于高分子材料的阻燃劑域蜂厅。
氫氧化鎂阻燃聚烯烴主要待解決3個主要問題：
第1匪凡，粉體粒徑及粒徑分布；
第2掘猿，粉 體的表面性能及其與高分子材料的相容性及分散性病游；
第3，粉體的流動性术奖。
      濕法研磨可以解決上述問題礁遵，濕法研磨得到的粉體粒徑小轻绞，分布均一采记，且為球狀顆粒，這將從根本上改善粒徑大小政勃、粒徑分布及粉體流動性的問題唧龄。此外，由于結(jié)構(gòu)決定性能奸远，通過以氫氧化鎂為核既棺，在其表面包覆低表面能的物質(zhì)可以有效的改善其與高分子材料的相容性，這同樣是解決相容性和分散性的核心方法懒叛。

      CMSD2000系列改進型研磨式分散機是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品丸冕，先錐形研磨頭具有精細度遞升的多鋸齒凸起和凹槽。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙薛窥。第二機由轉(zhuǎn)定子組成胖烛。分散頭的設(shè)計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求眼姐。整機采用佳的幾何機構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料佩番，可以滿足不同行業(yè)的多種需求众旗。通過研磨分散機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力趟畏、高頻振動等物理作用贡歧，使物料被有效的乳化、分散和粉碎赋秀，達到物料超細粉碎及乳化的效果利朵，出料粒徑可以微納米。

    通過IKN濕法粉碎從根本上解決了氫氧化鎂粒徑大小及粒度分布的問題猎莲，明顯地改善 了產(chǎn)品的流動性哗咆。在超細氫氧化鎂表面包覆低表面能的對苯二甲酸鎂，以實現(xiàn)材料相容性的改善益眉。利用濕法研磨和反應(yīng)包覆兩種工藝的耦合晌柬，利用濕法研磨的摩擦熱而使得沉 淀反應(yīng)發(fā)生，避免了額外輸入熱量郭脂，對節(jié)能減排具有積的促進作用年碘。
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影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點

1 研磨頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 研磨頭的剪切速率  （越大屿衅，效果越好）

3 研磨頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒莹弊，細齒涤久，超細齒，約細齒效果越好）

4  物料在分散墻體的停留時間忍弛，乳化分散時間（可以看作同等的電機响迂，流量越小，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多细疚，效果越好蔗彤，到設(shè)備的期限，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率疯兼。

– 剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)/   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知然遏，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

CMSD2000系列研磨分散機選型表

型號	流量 L/H	轉(zhuǎn)速 rpm		線速度 m/s		功率 kw	入/出口連接 DN
CMSD 2000/4	300	14000		41		4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10500		41		11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7200		41		22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4900		41		45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2850		41		90	DN150/DN125
CMSD 2000/50	60000	1100		41		160	DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)吧彪。

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性待侵，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
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更新時間：2024/12/16 9:49:54

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