化藥混懸液膠體磨，獸藥混懸液膠體磨冻河，化學(xué)藥物混懸液用加工技術(shù)設(shè)備膠體磨


     在獸藥等域箍邮，許多藥劑都會需要膠體磨對其進(jìn)行研磨細(xì)化，從而提高獸藥等的藥效以及穩(wěn)定性叨叙。如：混懸液制備等锭弊。膠體磨的基本原理是流體或半流體物料通過高速相對連動的定齒與動齒之間，使物料受到強(qiáng)大的剪切力擂错，磨擦力及高頻振動等作用味滞，有效地被粉碎、乳化、均質(zhì)剑鞍、混合昨凡，從而獲得滿意的精細(xì)加工的產(chǎn)品。其主機(jī)部份由殼體蚁署、動磨便脊、靜磨、調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)光戈、冷卻機(jī)構(gòu)哪痰、電機(jī)等組成。其主要零件均采用不銹鋼制造久妆，耐腐蝕晌杰，無毒。使用單位可依不同物料特性筷弦，生產(chǎn)效率肋演，不同用途，選用不同規(guī)格型號的膠體磨烂琴，使之達(dá)到良好的效果惋啃。
     
    上海依肯憑借多年來積累的豐富行業(yè)經(jīng)驗(yàn)結(jié)合優(yōu)良技術(shù)研發(fā)平臺特別推出CMSD2000系列改進(jìn)型膠體磨是由膠體磨和分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品，先錐形研磨頭具有精細(xì)度遞升的多鋸齒凸起和凹槽监右。定轉(zhuǎn)子間隙可以根據(jù)需要無限制調(diào)整間隙。第二由轉(zhuǎn)定子組成异希。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求健盒。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)良的材料称簿，可以滿足不同行業(yè)的多種需求扣癣。通過改進(jìn)型膠體磨定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力憨降、高頻振動等物理作用父虑，使物料被有效的乳化、分散和粉碎授药，達(dá)到物料超細(xì)粉碎士嚎、分散、乳化的效果悔叽。


影響膠體磨研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)

1 研磨和分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 研磨和分散頭的剪切速率  （越大莱衩，效果越好）

3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒娇澎，細(xì)齒笨蚁，超細(xì)齒，約細(xì)齒效果越好）

4 物料在研磨分散墻體的停留時間，乳化分散時間（可以看作同等的電機(jī)括细，流量越小伪很，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好奋单，到設(shè)備的期限锉试，就不能再好）

線速度的計(jì)算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

– 剪切速率 (s-1) = v  速率 (m/s)/   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知辱匿，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距键痛。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

CMSD2000系列改進(jìn)型膠體磨參數(shù)選型表

型號	流量 L/H	轉(zhuǎn)速 rpm		線速度 m/s		功率 kw	入/出口連接 DN
CMSD 2000/4	300	14000		41		4	DN25/DN15
CMSD 2000/5	1000	10500		41		11	DN40/DN32
CMSD 2000/10	4000	7200		41		22	DN80/DN65
CMSD 2000/20	10000	4900		41		45	DN80/DN65
CMSD 2000/30	20000	2850		41		90	DN150/DN125
CMSD 2000/50	60000	1100		41		160	DN200/DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性匾七，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10% 

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更新時間：2024/12/16 9:49:54

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