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懸浮液分散研磨設(shè)備，微納米懸浮液高速分散研磨機(jī)
在制備懸浮液的時(shí)候煤痕，常需要用到分散研磨的設(shè)備梧宫，天我們就來(lái)談一談分散機(jī)接谨。IKNCMSD2000系列的研磨分散機(jī)分散機(jī)具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑微納米塘匣，可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性脓豪。該混懸液分散機(jī)可以適用于各種分散乳化工藝，也可用于生產(chǎn)包括對(duì)乳狀液忌卤，懸浮液和膠體的均質(zhì)混合扫夜。混懸液分散乳化機(jī)由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加驰徊，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速笤闯。
懸浮液研磨分散機(jī)在電動(dòng)機(jī)的高速轉(zhuǎn)動(dòng)下物料從進(jìn)口處直接進(jìn)入混懸液破碎區(qū)，通過(guò)一種特殊粉碎裝置棍厂，將流體中的一些大粉團(tuán)颗味、粘塊、團(tuán)塊等大小顆粒迅速破碎牺弹，然后吸入剪切粉碎區(qū)浦马，在十分狹窄的工作過(guò)道內(nèi)由于轉(zhuǎn)子刀片與定子刀片相對(duì)高速切割從而產(chǎn)生強(qiáng)烈摩擦及研磨破碎等。
在機(jī)械運(yùn)動(dòng)和離心力的作用下张漂，將已粉碎細(xì)化的物料重新壓入精磨區(qū)進(jìn)行研磨破碎晶默。懸液研磨分散機(jī)精磨區(qū)，越向外延伸它的磨片精度越高鹃锈，齒距越小荤胁，線速度越長(zhǎng)，物料越磨越細(xì)屎债，同時(shí)流體逐步向徑向作曲線延伸仅政。
每到流體的方向速度瞬間發(fā)生變化，并且受到每分鐘上千萬(wàn)次的高速剪切盆驹、強(qiáng)烈摩擦圆丹、擠壓研磨、顆粒粉碎等躯喇，在經(jīng)過(guò)精磨區(qū)的上千萬(wàn)次的高速剪切辫封、研磨粉碎之后，從而產(chǎn) 生液料分子鏈斷裂廉丽、顆粒粉碎倦微、液粒撕破等功效使物料充分達(dá)到分散、粉碎正压、乳化欣福、均質(zhì)、細(xì)化的目的焦履。液料的小細(xì)度可達(dá)0.2um拓劝。需要更多的懸浮液生產(chǎn)線設(shè)備解決方案可以直接聯(lián)系上海依肯IKN徐工雏逾，為您提供可行性方案！
高速研磨分散機(jī)郑临， 線速度很高栖博，剪切間隙非常小，這樣當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候厢洞，形成的摩擦力就比較劇烈仇让，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形犀变，具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽妹孙。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下获枝，凹槽在每都可以改變方向蠢正。第二組由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求省店。被加工的物料通過(guò)本省的重量或者外部的壓力（可有泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力嚣崭，通過(guò)高速研磨分散機(jī)定轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時(shí)受到強(qiáng)大的剪切力、摩擦力懦傍、高頻振動(dòng)等物理作用雹舀，使物料被有效的乳化、分散和粉碎粗俱，達(dá)到物料超細(xì)粉碎及乳化的效果说榆。整機(jī)采用佳的幾何機(jī)構(gòu)的研磨定轉(zhuǎn)子，好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料寸认，可以滿足不同行業(yè)的多種需求签财。
影響研磨分散結(jié)果的因素有以下幾點(diǎn)：
1 研磨和分散頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 研磨和分散頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 研磨和分散頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒偏塞，中齒唱蒸，細(xì)齒，超細(xì)齒灸叼，約細(xì)齒效果越好）
4 物料在研磨分散腔體的停留時(shí)間神汹，研磨均質(zhì)時(shí)間（可以看作同等的電機(jī)，流量越小古今，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多屁魏，效果越好，到設(shè)備的期限捉腥，就不能再好）
CMSD2000系列研磨分散機(jī)參數(shù)選型表
| 研磨分散機(jī) | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
| 類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
| CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
| CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
| CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
| CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
| CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測(cè)定數(shù)據(jù)氓拼。
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
懸浮液分散研磨設(shè)備，微納米懸浮液高速分散研磨機(jī)
更新時(shí)間：2024/9/18 16:34:06
標(biāo)簽：懸浮液分散研磨設(shè)備 微納米懸浮液高速分散研磨機(jī)
