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產(chǎn)品展示
  • 產(chǎn)品名稱:制備微晶種濕磨機(jī)吏垮,利用濕磨來制備大量微晶種的設(shè)備,API濕磨機(jī)
  • 產(chǎn)品價(jià)格:0
  • 產(chǎn)品產(chǎn)地:中國(guó)大陸
  • 訪問次數(shù):182 發(fā)布時(shí)間:2024/1/30 11:02:30
  • 簡(jiǎn)介內(nèi)容:制備微晶種濕磨機(jī)罐旗,利用濕磨來制備大量微晶種的設(shè)備膳汪,API濕磨機(jī)。 高速研磨分散機(jī)九秀, 線速度很高遗嗽,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時(shí)候鼓蜒,形成的摩擦力就比較劇烈痹换,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形都弹,具有精細(xì)度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽娇豫。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下缔杉,凹槽在每都可以改變方向锤躁。
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制備微晶種濕磨機(jī),利用濕磨來制備大量微晶種的設(shè)備或详,API濕磨機(jī)


制備微晶種濕磨機(jī)系羞,利用濕磨來制備大量微晶種的設(shè)備,API濕磨機(jī)霸琴。 


 在活性藥物成分 (API) 的生產(chǎn)過程中椒振,添加晶種是普遍使用的手段來保證結(jié)晶 過程的高重復(fù)性,而微晶種由于其具有更小的顆粒和更大的比表面積梧乘,則更利于晶體生長(zhǎng)澎迎。 制備微晶種可使用干式研磨法(干磨)和濕式研磨法(濕磨)兩種方法庐杨。干磨常常存在粉塵控 制的問題。濕磨可避免這個(gè)問題夹供。

 

一種簡(jiǎn)化的利用濕磨來制備大量微晶種的裝置灵份, 該裝置是結(jié)合了添加干晶種和濕磨的方法,從而達(dá)到簡(jiǎn)化制備含有大量微晶種的微晶種懸 浮液的生產(chǎn)設(shè)備的目的哮洽,并且不受結(jié)晶釜大小限制填渠,靈活性較高。同時(shí)還減少儲(chǔ)存和添加大 量晶種的需要鸟辅。

 

利用濕磨來制備大量微晶種的方法氛什,該方法使用 上述裝置,該方法包括如下步驟

1)向結(jié)晶釜中加入活性藥物成分X粗品的溶液或加入X粗品固體和適量溶劑匪凉,攪拌使 其溶解制成溶液枪眉;

2)通過降溫、蒸發(fā)溶劑或加入適量反溶劑使過飽和度達(dá)到一定值但并不產(chǎn)生自發(fā)結(jié) 晶(比如2-30%的過飽和度)再层;

3)向結(jié)晶釜中加入質(zhì)量百分比<1%(優(yōu)選為0.5%)的固體晶種誘導(dǎo)結(jié)晶贸铜;所述質(zhì)量百分 比是晶種質(zhì)量相對(duì)于含量校正的X粗品質(zhì)量的百分比;

4)開啟循環(huán)泵和濕磨機(jī)聂受,此時(shí)觀察到逐漸有大量微晶種產(chǎn)生形成懸浮液萨脑,取樣確認(rèn)微 晶種大小符合工藝要求;關(guān)閉結(jié)晶釜底閥饺饭,用氮?dú)獯祾哐h(huán)管路將懸浮液全部轉(zhuǎn)移回結(jié)晶 釜;

5)繼續(xù)通過降溫职车、蒸發(fā)溶劑或向結(jié)晶釜添加反溶劑至結(jié)晶終點(diǎn)晶體全部析出瘫俊,過濾, 洗滌X濕品悴灵,干燥以得到終X產(chǎn)品扛芽。

 





IKN模塊化設(shè)計(jì)的主要特點(diǎn)如下:
-直立式腔體結(jié)構(gòu),物料可以全部進(jìn)入分散腔积瞒;
-無死角川尖;
-良好的表面處理;
-符合CIP/SIP的清洗要求茫孔;
-低噪音叮喳;
-所有接觸物料的材質(zhì)均為SS316
-小試缰贝、中試到量產(chǎn)馍悟,平穩(wěn)過渡;
-僅需簡(jiǎn)單的更換功能模塊剩晴,即可滿足分散-懸浮-均質(zhì)-乳化的不同要求锣咒;
-衛(wèi)生設(shè)計(jì)侵状,適合食品及制藥行業(yè);
-可提供特殊材質(zhì)滿足磨損性及腐蝕性產(chǎn)品處理要求毅整。

ERS2000系列高速高剪切濕磨機(jī)參數(shù)選型表:

 高速高剪切濕磨機(jī)

標(biāo)準(zhǔn)流量

L/H

輸出轉(zhuǎn)速

rpm

標(biāo)準(zhǔn)線速度

m/s

馬達(dá)功率

KW

進(jìn)口尺寸

出口尺寸

ERS 2000/4

300~1,000

14,000

44

4

DN25

DN15

ERS 2000/5

1,000~1,500

10,500

44

11

DN40

DN32

ERS 2000/10

3,000

7,300

44

30

DN50

DN50

ERS 2000/20

8,000

4,900

44

45

DN80

DN65

ERS 2000/30

20,000

2,850

44

75

DN150

DN125

ERS 2000/50

40,000

2,000

44

160

DN200

DN150

表中上限處理量是指介質(zhì)為的測(cè)定數(shù)據(jù)趣兄。










更新時(shí)間:2024/12/16 9:50:08

標(biāo)簽:制備微晶種濕磨機(jī)   利用濕磨來制備大量微晶種的設(shè)備   API濕磨機(jī)悼嫉。   

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