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IKN徐工特別推薦 混懸液如何選用合適研磨分散機 上海研磨分散機生產(chǎn)價格供應廠家 微納米研磨分散
混懸劑(suspensions)系指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非均勻分散的液體藥劑吟温。分散相微粒的大小一般在0.5~10μm之間雏婶,小的微粒可為0.1μm,大的微帘鎏恚可達50μm或更大⌒中桑混懸劑的分散介質(zhì)多為水颠猴,也有用植物油∑潞兀混懸劑屬于熱力學不穩(wěn)定的粗分散體系官辈。
藥物可考慮制成混懸劑的情況為:①不溶性藥物需制成液體藥劑應用;②藥物的劑量超過了溶解度而不能制成溶液劑遍坟;③兩種溶液混合由于藥物的溶解度降低而析出固體藥物或產(chǎn)生難溶性化合物拳亿;④與溶液劑比較,為了使藥物緩釋長效愿伴。⑤與固體劑型比較肺魁,為了加快藥物的吸收速度,提高藥物的生物利用度隔节。⑥固體劑型胃局部刺激性大的情況鹅经,可考慮用混懸劑。但對于毒劇藥物或劑量太小的藥物怎诫,為了保證用藥的安全性瘾晃。則不宜制成混懸劑應用。
混懸劑的質(zhì)量要求是:藥物本身化學性質(zhì)應穩(wěn)定幻妓,有效期內(nèi)藥物含量符合要求蹦误;混懸微粒細微均勻,微粒大小應符合該劑型的要求肉津;微粒沉降緩慢强胰,口服混懸劑沉降體積比應不低于0.90,沉降后不結塊妹沙,輕搖后應能迅速分散偶洋;混懸劑的粘度應適宜,傾倒時不沾瓶壁距糖;外用混懸劑應易于涂布玄窝,不易流散;不得有發(fā)霉肾筐、酸敗哆料、變色、異臭吗铐、異物东亦、產(chǎn)生氣體或其他變質(zhì)現(xiàn)象;標簽上應注明“用搖勻”。
混懸劑一般為液體藥劑典阵,也包括一種干混懸劑奋渔。它是將難溶性藥物與適宜輔料制成粉末狀或顆粒狀藥劑,臨用加水振搖即可分散成混懸液壮啊。其主要是有利于解決混懸劑在保存過程中的穩(wěn)定性問題嫉鲸,并可簡化包裝,便于貯藏和攜帶歹啼。
混懸劑-混懸液的穩(wěn)定性
混懸劑中藥物微粒與分散介質(zhì)之間存在著固液界面玄渗,微粒的分散度較大,使混懸微粒具有較高的表面自由能狸眼,故處于不穩(wěn)定狀態(tài)藤树。尤其是疏水性藥物的混懸劑,存在更大的穩(wěn)定性問題拓萌。這里主要討論混懸劑的物理穩(wěn)定性問題岁钓,以及提高穩(wěn)定性的措施。
(一)混懸微粒的沉降
混懸劑中的微粒由于受重力作用微王,靜置后會自然沉降屡限,其沉降速度服從Stokes定律:
按Stokes定律要求,混懸劑中微粒濃度應在2%以下炕倘。但實際上常用的混懸劑濃度均在2%以上钧大。此外,在沉降過程中微粒電荷的相互排斥作用罩旋,阻礙了微粒沉降拓型,故實際沉降速度要比計算得出的速度小得多。由Stokes定律可見瘸恼,混懸微粒沉降速度與微粒半徑平方、微粒與分散介質(zhì)密度差成正比册养,與分散介質(zhì)的粘度成反比东帅。混懸微粒沉降速度愈大球拦,混懸劑的動力學穩(wěn)定性就愈小靠闭。
為了使微粒沉降速度減小,增加混懸劑的穩(wěn)定性坎炼,可采用以下措施:①盡可能減小微粒半徑愧膀,采用適當方法將藥物粉碎得愈細愈好。這是zui有效的一種方法谣光。②加入高分子助懸劑檩淋,既增加了分散介質(zhì)的粘度,又減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差萄金,同時助懸劑被吸附于微粒的表面蟀悦,形成保護膜媚朦,增加微粒的親水性。③混懸劑中加入低分子助懸劑如糖漿日戈、甘油等询张,減少微粒與分散介質(zhì)之間的密度差,同時也增加混懸劑的粘度浙炼。這些措施可使混懸微粒沉降速度大為降低份氧,有效地增加了混懸劑的穩(wěn)定性。但混懸劑中的微粒zui終總是要沉降的弯屈,只是大的微粒沉降稍快蜗帜,細小微粒沉降速度較慢,更細小的微粒由于布朗運動季俩,可長時間混懸在介質(zhì)中钮糖。
混懸劑的制備應使固體藥物有適當?shù)姆稚⒍龋⒘7稚⒕鶆蜃米。鞈覄┓(wěn)定店归,再懸性好±椅遥混懸劑的制備方法有分散法和凝聚法消痛。
1.分散法將固體藥物粉碎、研磨成符合混懸劑要求的微粒都哭,再分散于分散介質(zhì)中制成混懸劑秩伞。小量制備可用研缽,大量生產(chǎn)時可用分散機欺矫、膠體磨 高壓均質(zhì)機 研磨分散機等機械纱新。
分散法制備混懸劑要考慮藥物的親水性。對于親水性藥物如氧化鋅穆趴、爐甘石脸爱、堿式碳酸鉍、碳酸鈣未妹、碳酸鎂簿废、磺胺類等,一般可先將藥物粉碎至一定細度络它,再采用加液研磨法制備族檬,即1份藥物加入0.4~0.6份的溶液,研磨至適宜的分散度化戳,zui后加入處方中的剩余液體使成全量单料。加液研磨可用處方中的液體,如水、芳香水看尼、糖漿递鹉、甘油等。此法可使藥物更容易粉碎藏斩,得到的混懸微刘锝幔可達到0.1~0.5μm.對于質(zhì)重、硬度大的藥物狰域,可采用“水飛法”制備媳拴。“水飛法”可使藥物粉碎成細的程度而有助于混懸劑的穩(wěn)定。
疏水性藥物制備混懸劑時兆览,若藥物與水的接觸角>90°屈溉,不易被水潤濕,很難制成混懸劑抬探∽咏恚可加入潤濕劑與藥物共研,改善疏水性藥物的潤濕性小压。
助懸劑线梗、防腐劑、矯味劑等附加劑可先用溶劑制成溶液怠益,制備混懸劑時作液體使用仪搔。
現(xiàn)代固體分散技術,如藥物微粉化技術蜻牢,應用于混懸劑的制備烤咧,可使混懸微粒更細小,更均勻抢呆,混懸劑的穩(wěn)定性更好煮嫌,生物利用度更高。如應用氣流粉碎機抱虐,粉碎的藥物可同時進行分立膛,可得到5μm以下均勻的微粉;膠體磨能將藥物粉碎至小于1μm的微粉梯码。
研磨:利用剪切力(shear force)、摩擦力或沖擊力(impactforce)將粉體由大顆粒粉碎成小顆粒好啰。
分散:納米粉體被其所添加溶劑轩娶、助劑、分散劑框往、樹脂等包覆住鳄抒,以便達到顆粒完全被分離(separating)、潤濕(wetting)、分布(distributing)均勻及穩(wěn)定(stabilization)目的许溅。
研磨式分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品瓤鼻。
第1組由具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離贤重。在增強的流體湍流下茬祷,凹槽在每層都可以改變方向。
第2組由轉(zhuǎn)定子組成并蝗。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要祭犯。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度滚停、中等精度沃粗、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學特征不一樣键畴。狹槽數(shù)最盅、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例起惕,依據(jù)以的經(jīng)驗工作頭來滿足一個具體的應用涡贱。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的疤祭,因而它對制造出 終產(chǎn)品是很重要盼产。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用∩坠荩可致電上海依肯 銷售工程師 徐工
電機形式:普通馬達戏售、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達草穆、變頻防爆馬達灌灾、
電源選擇: 380V/50HZ、220V/60HZ悲柱、440V/50HZ
電機選配件: PTC 熱保護锋喜、降噪型
研磨分散機材質(zhì):SUS304 、SUS316L 豌鸡、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐嘿般、排污閥、變頻器涯冠、電控箱炉奴、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結形式:法蘭蛇更、螺口瞻赶、夾箍
研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器
高速研磨分散機赛糟, 線速度很高,剪切間隙非常小砸逊,這樣當物料經(jīng)過的時候璧南,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨师逸。定轉(zhuǎn)子被制成圓錐形司倚,具有精細度遞升的三組鋸齒凸起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的轉(zhuǎn)子之間的距離字旭。在增強的流體湍流下对湃,凹槽在每都可以改變方向。第二組由轉(zhuǎn)定子組成遗淳。分散頭的設計也很好的滿足不同粘度物質(zhì)以及顆粒粒徑的需求拍柒。被加工的物料通過本省的重量或者外部的壓力(可有泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,通過高速研磨分散機定轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力屈暗、摩擦力拆讯、高頻振動等物理作用,使物料被有效的乳化养叛、分散和粉碎种呐,達到物料超細粉碎及乳化的效果。整機采用佳的幾何機構的研磨定轉(zhuǎn)子弃甥,好的表面處理和優(yōu)質(zhì)材料爽室,可以滿足不同行業(yè)的多種需求。
影響研磨分散結果的因素有以下幾點:
1 研磨和分散頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次好)
2 研磨和分散頭的剪切速率 (越大淆攻,效果越好)
3 研磨和分散頭的齒形結構(分為初齒阔墩,中齒,細齒瓶珊,超細齒啸箫,約細齒效果越好)
4 物料在研磨分散腔體的停留時間,研磨均質(zhì)時間(可以看作同等的電機伞芹,流量越小忘苛,效果越好)
5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好唱较,到設備的期限扎唾,就不能再好)
CMSD2000系列研磨分散機參數(shù)選型表
研磨分散機 | 流量 | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW |
|
CMSD2000/4 | 300 | 14,000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10,500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7,200 | 41 | 30 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4,900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質(zhì)為“水”的測定數(shù)據(jù)。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性南缓,可以被調(diào)節(jié)到大允許量的10%
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更新時間:2024/12/16 9:50:08