傳統(tǒng)的光催化方法一般采用無機半導體作為催化劑，比如Ti02缸濒，Zn0和Cu2O等。 但因為無機半導體存在量子效率低和不能有效利用可見光等缺點元镀，限制了光催化技術的大規(guī)模應用绍填。
導電聚合物是一種具有導電性的高分子聚合物，又稱導電高分子栖疑。由于導電聚合物具有獨特的光電性質(zhì)讨永，在眾多導電聚合物中，聚噻吩具有電導率高遇革、穩(wěn)定性好卿闹、 易功能化和加工性好的優(yōu)點，在光電材料萝快、電磁屏蔽锻霎、微波吸收以及人造器官等域具有良好的應用景。
IKN在克服現(xiàn)有技術缺陷揪漩，目的是提供一種價格低廉和環(huán)境友好的聚噻吩納米光催化劑的制備方法旋恼，用IKN高剪切納米乳化機制備的聚噻吩納米光催化劑不僅性質(zhì)穩(wěn)定、粒徑均勻和形狀規(guī)整奄容，且單分散性好和對有機污染物的吸附能力強冰更。
IKN技術具有以下優(yōu)點

1、采用的是W/0微乳液法昂勒，該法設備簡單蜀细，操作容易，條件溫和戈盈，而且有機溶劑容易回收奠衔，綠色環(huán)保谆刨。
2、可人為控制合成顆粒的大小归斤，合成顆粒粒徑分布窄痊夭，所制備的聚噻吩納米光催化劑具有性質(zhì)穩(wěn)定、粒徑均勻官册、形狀規(guī)整的特點生兆。
3、所制備的聚噻吩納米光催化劑在水溶液中單分散性好膝宁、對有機污染物的吸附能力強鸦难，具有較高的光催化活性，能有效降解偶氮類有機污染物员淫，操作簡單合蔽。
4、所制備的聚噻吩納米光催化劑使用后通過離心介返、洗滌拴事、干燥的方式使聚噻吩納米光催化劑可以重復使用，再生方法簡單圣蝎。
 

噻吩聚合物高剪切乳化機制備乳狀液的乳化方法刃宵，除了初生皂法、劑在水中法徘公、劑在油中法之外牲证，還有：油水混合

通常此法是水、油兩相分別在兩個容器內(nèi)進行关面，將親油性的乳化劑溶于油相坦袍，將親水性乳化劑溶于水相，而乳化在第三容器內(nèi)（或在流水作業(yè)線之內(nèi)）進行等太。每一相以少量而交替地加于乳化容器中捂齐，直至其中某一相已加完，另一相余下部分以細流加入缩抡。如使用流水作業(yè)系統(tǒng)奠宜，則水、油兩相按其正確比例連續(xù)投入系統(tǒng)中瞻想。

轉(zhuǎn)相乳化

在一較大容器中制備好內(nèi)相压真，乳化就在此容器中進行。（如若要制取O/W型乳狀液内边，就在乳化容器中制備油相。）將已制備好的另一相（外相待锈，在例中為水相）漠其，按細流形式或一份一份地加入。起先形成W/O型乳狀液，水相繼續(xù)增加和屎，乳狀液逐漸增稠拴驮，但在水相加至66%以后，乳狀液就突然發(fā)稀柴信，并轉(zhuǎn)變成O/W型乳狀液套啤，繼續(xù)將余下地水相較快速加完，而終得到O/W型乳狀液随常。類似本例可制得W/O型乳狀液潜沦。此種方法稱為轉(zhuǎn)相乳化法，由此法得到的乳狀液其顆粒分散的很細绪氛，且均勻唆鸡。

聚噻吩聚合物高剪切乳化機具有非常高的剪切速度和剪切力，粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性枣察。該設備可以適用于各種分散乳化工藝争占，也可用于生產(chǎn)包括對乳狀液,懸浮液和膠體的均質(zhì)混合。高剪切分散乳化機由定/轉(zhuǎn)子系統(tǒng)生的剪切力使得溶質(zhì)轉(zhuǎn)移速度增加序目，從而使單一分子和宏觀分子媒介的分解加速臂痕。

聚噻吩聚合物高剪切乳化機，主要應用于處理大量乳液和生成超細懸乳液猿涨。由于同時用三個工作頭(轉(zhuǎn)子和定子)進行處理握童，可獲得很窄的粒徑分布,獲得更小的液滴和顆粒，因而生成的混合液的穩(wěn)定性更好嘿辟。分散頭容易更換,適合于各種不同的應用舆瘪。不同的機器都有相同的轉(zhuǎn)速和剪切率，這樣便于規(guī)模擴產(chǎn)红伦。符合CIP和SIP的清潔標準,因此特別適合于食和藥品生產(chǎn)英古。 

影響均質(zhì)乳化結(jié)果的因素有以下幾點

1 均質(zhì)頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）

2 均質(zhì)頭的剪切速率  （越大，效果越好）

3 均質(zhì)頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒昙读，中齒召调，細齒，超細齒蛮浑，約細齒效果越好）

4  物料在分散墻體的停留時間唠叛，均質(zhì)乳化時間（可以看作同等的電機，流量越小沮稚，效果越好）

5 循環(huán)次數(shù)（越多艺沼，效果越好，到設備的期限蕴掏，就不能再好）

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率障般。

– 剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)                   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知调鲸，剪切速率取決于以下因素：

– 轉(zhuǎn)子的線速率

– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm 

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更新時間：2024/12/16 9:50:22

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